论文部分内容阅读
正如2007版国际半导体技术蓝图（ITRS）所提到的,自动测试设备（ATE）所面临的最紧迫的技术挑战便是“促进良率提高的测试”,特别是对于90、65、45nm和未来工艺节点上的晶圆工艺和器件良率学习。
ATE应对90nm及以下节点良率问题
【摘 要】
：
正如2007版国际半导体技术蓝图（ITRS）所提到的,自动测试设备（ATE）所面临的最紧迫的技术挑战便是“促进良率提高的测试”,特别是对于90、65、45nm和未来工艺节点上的晶圆工艺和器
【出 处】
：
集成电路应用
【发表日期】
：
2008年8期
其他文献
加利福尼亚微器件公司（California Micro Devices，CMD）日前推出一款高集成度的ASIP器件CM2006，该器件是用于数字消费电子与PC外设应用中VGA和DVI—I端口的完整解决方案。
在今年四月份于德州奥斯汀举行的表面预处理与清洗会议（SurfacePreparationandClean—ingConference．SPCC）上，来自IMEC超级清洗工艺项目的项目经理PaulMetens列举了45和32nm节点
许多fab认为基于芯片（die-based）的方法很难适用于包含多种芯片的版图和？昆合的（mixed）缺陷分布，所以不用这种方法来监测成品率的影响，而代之以缺陷密度度量来监测缺陷随着时间的变
目的探讨中心静脉压力波形指导耐高压注射型经外周置入中心静脉导管（power peripherally inserted central catheter,Power PICC）尖端定位方法在临床的应用效果。方法便利抽样
素描教学中动手能力的培养与辐射侯田中，李建国由·于实用美术专业自身的特殊性，结构素描训练占着较大的比例。为提高结构素描的教学质量，奠定学生扎实的造型基础，除充分运用
Texas Instruments（TI）设计数据集成部主管Mark Mason指出：尽管157纳米乃至126纳米光学波长曾经一度被视为未来的光刻技术解决方案，极紫外线光刻技术（EUV）也被推测可能早于预期崭露
<正>在《证券时报》全媒体转型的大背景下,2015年4月《证券时报》机构中心(专门负责金融机构报道)开设了部门的微信公众号——"券商中国"。"券商中国"致力于提供最及时的财经
期刊
我们期待着半导体设备的贸易特别是Vistec Semiconductor Systems涉及的领域在2007年迈上一个新的台阶。