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电弧离子镀膜层中“大颗粒”的存在，降低了膜层质量，限制了其进一步应用。采用俄罗斯UVN0．5D2I离子柬辅助沉积电弧离子镀设备，对高速钢W18Cr4V上沉积的TiN膜层进行了氮离子束轰击。结果表明：TiN膜层表面“大颗粒”完全消失，凹坑浅而平整，粗糙度降低。膜层中较软的Ti和Ti2N向TiN转变，TiN（111）取向逐渐减弱，而（200）取向逐渐增强。膜层的显微硬度由原来的1980HV，N升高到2310HV1N。