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Cu(Ⅱ)-Ethylenediamine-NH4Cl-NH3-H2O体系稀溶液铜电积新工艺研究
Cu(Ⅱ)-Ethylenediamine-NH4Cl-NH3-H2O体系稀溶液铜电积新工艺研究
来源 :甘肃冶金 | 被引量 : 0次 | 上传用户:sadlyiwas
【摘 要】
:
本文重点用控制变量的方法研究了在氨体系中温度、电流密度、铜离子浓度、pH等对电积过程中电流效率与槽电压的影响,总结了在稀溶液铜(Ⅱ)-氯化铵-氨-水体系中铜电积的一些规律
【作 者】
:
鲁兴武
张建斌
马爱军
刘维
【机 构】
:
白银有色集团股份有限公司技术中心,白银有色集团股份有限公司铜业公司,中南大学冶金科学与工程学院
【出 处】
:
甘肃冶金
【发表日期】
:
2010年3期
【关键词】
:
氨体系
铜电积
槽电压
电流效率
ammonia system
copper electrowinning
cell voltage
current ef
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本文重点用控制变量的方法研究了在氨体系中温度、电流密度、铜离子浓度、pH等对电积过程中电流效率与槽电压的影响,总结了在稀溶液铜(Ⅱ)-氯化铵-氨-水体系中铜电积的一些规律。
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