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采用含硅量较高(23wt%)的新型光致抗蚀剂实现了55nm的各种特性,获得了较高的耐腐蚀性能,并降低了线条边缘粗糙度.结果还表明,这种新型的光致抗蚀剂与浸没式光刻工艺具有良好的一致性
用于亚65纳米光刻的双层抗蚀剂
【摘 要】
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采用含硅量较高(23wt%)的新型光致抗蚀剂实现了55nm的各种特性,获得了较高的耐腐蚀性能,并降低了线条边缘粗糙度.结果还表明,这种新型的光致抗蚀剂与浸没式光刻工艺具有良好
【机 构】
：
Tokyo Ohka Kogyo Co. Ltd.Dow Corning Corp.;
【出 处】
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集成电路应用
【发表日期】
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2006年3期
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