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介绍了采用反应溅射法制备双面Y2O3双面种子层长带材，通过引入水汽使Y原子在RABiTS基带上氧化成膜，同时有效的避免了基带的氧化。通过对工艺参数的优化，成功制备了高质量的Y2O3种子层，其面内面外半高宽仅为3．8°和1．4°，大大改善了金属基带的双轴织构特性，同时薄膜表面粗糙度仅为2．8nm。在制备的高质量种子层上采用溅射方法外延生长YSZ阻挡层和CeO2模板层，薄膜表面光滑，并具有良好的均匀性和双面一致性。用双倒简靶溅射法制备YBCO超导层，采用旋转结合轴向自动进退，改善了薄膜受热