直流磁控溅射法制备ZnO:Zr透明导电薄膜及性能研究

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利用直流磁控溅射法在玻璃衬底上制备了ZnO:Zr(ZZO)透明导电薄膜。研究了厚度对薄膜结构及光电性能的影响。研究结果表明,厚度对薄膜的结构和电学性能有很大的影响。制备的ZZO薄膜为六角纤锌矿结构的多晶薄膜,具有C轴择优取向。在厚度为593nm时,薄膜的电阻率具有最小值1.9×10^-3Ω·cm。所制备薄膜样品的可见光平均透过率都超过93%。
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