【摘 要】
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采用复合高功率脉冲磁控溅射技术在单晶Si片、高速钢和玻璃上制备CrN薄膜.分别研究了脉冲电压在500,600,700,750 V时对薄膜的组织结构和力学性能的影响.结果表明,随着脉冲电
【机 构】
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广东工业大学机电工程学院 广州510006中国科学院海洋新材料与应用技术重点实验室浙江省海洋材料与防护技术重点实验室中国科学院宁波材料技术与工程研究所 宁波315201;中国科学院海洋新材料与应用技术
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采用复合高功率脉冲磁控溅射技术在单晶Si片、高速钢和玻璃上制备CrN薄膜.分别研究了脉冲电压在500,600,700,750 V时对薄膜的组织结构和力学性能的影响.结果表明,随着脉冲电压的增加,靶材离化率增加,靶电流以及溅射原子离子数量级能量均增大,使得沉积的薄膜组织结构更加致密,晶粒逐渐细化,表面更加光滑,硬度提高.高功率脉冲磁控溅射技术具备了磁控溅射技术制备的薄膜表面光滑优势,以及电弧离子镀高离化率特点,获得了结构性能优异的CrN薄膜.
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