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期刊论文
磁控靶溅射刻蚀的模拟研究
磁控靶溅射刻蚀的模拟研究
来源 :华中理工大学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:menangchen
【摘 要】
:
建立了磁控溅射单粒子模型,结合靶表面磁场的分布,用MonteCarlo研究了溅射气体粒子的运动规律,得到靶表面刻蚀的图形,发现靶中间环的刻蚀最强,这与实验结果和磁场的水平分量分布一致。
【作 者】
:
胡作启
李佐宜
【机 构】
:
固体电子学系
【出 处】
:
华中理工大学学报
【发表日期】
:
1997年11期
【关键词】
:
磁场分布
磁控溅射
半导体器件
刻蚀
sputtering model
magnetic field distribution
target etching
【基金项目】
:
国防科工委八五预研项目
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建立了磁控溅射单粒子模型,结合靶表面磁场的分布,用MonteCarlo研究了溅射气体粒子的运动规律,得到靶表面刻蚀的图形,发现靶中间环的刻蚀最强,这与实验结果和磁场的水平分量分布一致。
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