同步辐射X射线光刻实验研究

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同步辐射X射线光刻是一种很好的深亚微米图形复制技术。本文报道了北京同步辐射装置3B1A光刻束线上的日光结果,并对X射线掩模的制作工艺作了简要介绍。
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