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康宁公司已将其半导体材料计量实验室的193 nm激光损伤检验装置升级。升级系统现在使用2000 Hz光刻激光器，将改进193 nm辐射如何影响HPFS玻璃和氟化钙晶体的物理和光学特性的能力。该玻璃用于氟化氩光刻。
康宁激光损伤检验装置升级
【摘 要】
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康宁公司已将其半导体材料计量实验室的193 nm激光损伤检验装置升级。升级系统现在使用2000 Hz光刻激光器，将改进193 nm辐射如何影响HPFS玻璃和氟化钙晶体的物理和光学特性的
【出 处】
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激光与光电子学进展
【发表日期】
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2001年7期
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