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以对氢气易于反应的钯为催化材料、钯的沉积厚度和热处理条件为变量，研究三氧化钨薄膜的物理化学性能及气体反应特性。结果表明，三氧化钨在500℃以上时呈现四方晶体的多晶态，钯沉积对三氧化钨的晶体结构没有影响，但是随着钯的添加抑制了三氧化钨的晶粒生长。500℃以上热处理时钯在薄膜表面呈现小球状，600℃以上热处理时钯粒子在薄膜表面凝结或扩散到材料内部。沉积钯2nm的薄膜在工作温度250℃时反应灵敏度和恢复特性对氢气的检测特性最好。