半导体中深能级的晶格弛豫效应

来源 :湖南师范大学自然科学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：mqzhen1987

【摘要】

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基于Hjalmarson 等人提出的理论,研究了有关Si, Ge以及GaP的深能级的最近邻和次最近邻晶格弛豫效应．对Baranowski提出的计算紧束缚非对角元的近似估算模型作了合理的修正，采用H

【作者】

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张跃

【机构】

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湖南师范大学物理与信息科学学院

【出处】

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湖南师范大学自然科学学报

【发表日期】

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2013年2期

【关键词】

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最近邻晶格弛豫次最近邻晶格弛豫键长变化 Harrison规则 Baranowski模型 The nearest-neighbor lattice relax

【基金项目】

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湖南师范大学科学研究项目（29000631）

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基于Hjalmarson 等人提出的理论,研究了有关Si, Ge以及GaP的深能级的最近邻和次最近邻晶格弛豫效应．对Baranowski提出的计算紧束缚非对角元的近似估算模型作了合理的修正，采用Harrison提出的与最近邻原子的键长的平方成反比例的规则以及修正的Baranowski模型，进行了大量的数值计算．对于含多种杂质的Si, Ge和GaP半导体材料，文中还对利用不同的理论模型分别计算出的深能级及实验测量结果的误差作了比较．

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