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从理论上分析了双层膜孤立垂直磁化ＭＲ头的读出过程。结果发现，若采用双层膜垂直磁记录介质与ＭＲ头相耦合使用，则可实现比单层膜垂直磁化介质记录更高的记录道密度。这有利于提高记录面密度。
双层膜垂直磁记录MR头读出过程的理论分析
【摘 要】
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从理论上分析了双层膜孤立垂直磁化ＭＲ头的读出过程。结果发现，若采用双层膜垂直磁记录介质与ＭＲ头相耦合使用，则可实现比单层膜垂直磁化介质记录更高的记录道密度。这有利于提高记录
【机 构】
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武汉数字工程研究所
【出 处】
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华中理工大学学报
【发表日期】
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1995年S2期
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