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期刊论文
IC+MOS组合电路封装漏电机理探讨
IC+MOS组合电路封装漏电机理探讨
来源 :电子工业专用设备 | 被引量 : 0次 | 上传用户:yng2005
【摘 要】
:
通过对IC+MOS电路组合特点的讨论,重点对MOSFET晶圆前制程中的缺陷、封装过程的外力损伤缺陷等对封装后产品漏电现象的影响进行了探讨,以期通过制程控制和过程缺陷分析,为MOS
【作 者】
:
牛社强
胡燕燕
何文海
【机 构】
:
天水华天科技股份有限公司
【出 处】
:
电子工业专用设备
【发表日期】
:
2016年06期
【关键词】
:
IC+MOSFET组合封装
漏电
芯片缺陷
封装过程
外力损伤
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通过对IC+MOS电路组合特点的讨论,重点对MOSFET晶圆前制程中的缺陷、封装过程的外力损伤缺陷等对封装后产品漏电现象的影响进行了探讨,以期通过制程控制和过程缺陷分析,为MOSFET封装在品质保证上提供保证。
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