【摘 要】
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采用化学溶液沉积法在Al2O3衬底上生长了MgxNi（1-x）Mn2O4（MNM,x=0,0.05,0.10,0.15,0.20）薄膜.通过X射线衍射仪和场发射扫描电子显微镜研究了Mg掺杂浓度对MNM薄膜的结构特性的影响
【机 构】
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上海理工大学材料科学与工程学院,中国科学院上海技术物理研究所红外物理国家重点实验室
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采用化学溶液沉积法在Al2O3衬底上生长了MgxNi（1-x）Mn2O4（MNM,x=0,0.05,0.10,0.15,0.20）薄膜.通过X射线衍射仪和场发射扫描电子显微镜研究了Mg掺杂浓度对MNM薄膜的结构特性的影响,MNM薄膜均匀致密,具有良好的结晶性,为单一立方尖晶石结构.变温电流-电压特性研究显示,MNM薄膜的电输运特性符合小极化子变程跳跃电导模型,同时获得了不同Mg掺杂浓度的MNM薄膜的电阻率ρ、特征温度T0和电阻温度系数α.研究结果表明,Mg的掺杂对MNM薄膜的结构和电学特性都有一定的影响.
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