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提出了表面活性剂ＴＰＣ存在下Ｉ３＾－间接光度法测定痕量硒方法。方法灵敏度高（ε＝１．１４×１０＾６），除铁外其它离子基本无干扰，选择性好，测定含Ｓｅ（Ⅳ）２．０μｇ样品１０次，ＲＳＤ＝３．９％，精密度理想，适于生物样品及产中Ｓｅ（Ⅳ）测定，结果令人满意。
TPC—I3^—体系间接光度法测量痕量Se（Ⅳ）
【摘 要】
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提出了表面活性剂ＴＰＣ存在下Ｉ３＾－间接光度法测定痕量硒方法。方法灵敏度高（ε＝１．１４×１０＾６），除铁外其它离子基本无干扰，选择性好，测定含Ｓｅ（Ⅳ）２．０μｇ样品１０次，ＲＳＤ＝３．９％，精密度理想，适于生物样品及产中Ｓｅ（Ⅳ）测定，结果令人满
【机 构】
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四平师范学院化学系
【出 处】
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理化检验(化学分册)
【发表日期】
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1995年6期
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