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近日,中国科学院兰州化学物理研究所先进润滑与防护材料研究发展中心在四氯化碳气氛下碳化硅表面双层碳膜制备方面取得了新进展。研究人员以四氯化碳为氯气源和碳源,通过碳化物衍生碳（CDC）过程和化学气相沉积（CVD）法,成
碳化硅表面双层碳膜制备取得新进展
【摘 要】
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近日,中国科学院兰州化学物理研究所先进润滑与防护材料研究发展中心在四氯化碳气氛下碳化硅表面双层碳膜制备方面取得了新进展。研究人员以四氯化碳为氯气源和碳源,通过碳化
【出 处】
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中国材料进展
【发表日期】
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2011年7期
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