【摘 要】
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通过射频磁控溅射工艺制备了TiO2复合纳米薄膜并分析了薄膜的结构及光催化特性.退火温度在350-550℃时Fe3+-TiO2复合薄膜均为锐钛矿相,以石英玻璃为基片的掺铁TiO2复合膜在(1
【机 构】
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黑龙江大学集成电路重点实验室黑龙江大学集成电路重点实验室黑龙江哈尔滨150080哈尔滨工程大学机电学院黑龙江哈尔滨
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通过射频磁控溅射工艺制备了TiO2复合纳米薄膜并分析了薄膜的结构及光催化特性.退火温度在350-550℃时Fe3+-TiO2复合薄膜均为锐钛矿相,以石英玻璃为基片的掺铁TiO2复合膜在(101)面有一定的择优取向.复合膜晶粒为锥形颗粒,薄膜表面积大于同温度退火时的纯二氧化钛薄膜,晶粒结晶过程中Fe3+替位Ti4+在晶粒中形成分离的P型杂质能级,TiO2的禁带宽度受到Fe3+杂质能级的影响使TiO2复合纳米膜的光吸收阈值有明显的“红移”的现象,在模拟日光环境光催化甲基橙试验中,Fe3+-TiO2复合纳米膜的
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