离子注入辣椒出苗特性的研究

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采用生物改性离子注入设备对辣椒干种子进行了N^+离子注入,详细进行了干种子注入N^+离子后的育种和生长特性研究,主要研究了N^+离子注入后辣椒种子的出苗率、出苗时间与N^+离子注入工艺参数之间的关系,通过研究,获得了致死率为50%的离子注入工艺参数,同时,得到了离子能量和注入剂量相关的致死临界曲线,该致死临界曲线类似于反比例曲线。研究表明,致死临界曲线上任一点的离子能量和注入剂量之积在2×10^17kev·ions/mm^2—2.5×10^17keV.ions/mm^2范围内
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