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用X射线衍射技术研究了Si-Ge合金的均匀性。利用Vegard定律测定Si-Ge固溶体成分的不均匀性。除用X射线衍射作成分分析和相组成分析之外,还作了一些金相电子探针微区分析,进一步证实X射线法测定Si-Ge合金均匀程度的优越性。
硅锗合金均匀性的X射线衍射研究
【摘 要】
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用X射线衍射技术研究了Si-Ge合金的均匀性。利用Vegard定律测定Si-Ge固溶体成分的不均匀性。除用X射线衍射作成分分析和相组成分析之外,还作了一些金相电子探针微区分析,进一
【机 构】
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北京有色金属研究总院
【出 处】
：
稀有金属
【发表日期】
：
1989年2期
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