改善Nd:YVO4晶体光学均匀性的工艺研究

来源 :人工晶体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:liliansun71
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以浓度分布差小和退火后光学均匀性好为目的,通过改造温场,分阶段调整生长界面、搅拌速度、提拉速度、温度、时间等工艺参数,改善了Nd:YVO4激光晶体的光学质量和光学均匀性.
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