利用磁控溅射仪制作平面薄膜型H2S硅微传感器

来源 :福州大学学报(自然科学版) | 被引量 : 0次 | 上传用户：simetl21

【摘要】

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通过反应溅射,以硅基片(表面上有白金加热电极)为基底制作H2S薄膜气敏元件.实验表明,纳米SnO2对H2S具有较高的敏感度,对干扰气体的选择性较好.性能测试表明,元件的特性与敏感

【作者】

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林伟黄世震赖云锋

【机构】

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福州大学气敏传感器研究所

【出处】

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福州大学学报(自然科学版)

【发表日期】

：

2003年4期

【关键词】

：

薄膜 H2S气敏元件磁控溅射薄膜厚度溅射气压灵敏度选择性 thin film H2S sensors magnetic sputtering

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通过反应溅射,以硅基片(表面上有白金加热电极)为基底制作H2S薄膜气敏元件.实验表明,纳米SnO2对H2S具有较高的敏感度,对干扰气体的选择性较好.性能测试表明,元件的特性与敏感材料的厚度、溅射气压等工艺参数有关系,但敏感材料的厚度对元件的特性起着决定性的作用,气敏薄膜有一个最佳厚度范围.通过X射线衍射仪进行材料的微观分析,表明SnO2的平均粒径大小为8.5 nm.

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