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RET的研究与应用:实现光刻技术的新跨越
RET的研究与应用:实现光刻技术的新跨越
来源 :中国集成电路 | 被引量 : 0次 | 上传用户:Nibel
【摘 要】
:
现在,国家科技部正在组织实施"十五"863计划"100nm分辨率193nm ArF准分子激光器步进扫描投影光刻机"重大项目的研制与攻关,计划在2005年完
【作 者】
:
马振宇
【机 构】
:
首钢日电电子有限公司
【出 处】
:
中国集成电路
【发表日期】
:
2002年10期
【关键词】
:
研究与应用
光刻胶
步进扫描投影光刻机
分辨率增强技术
二氧化硅
光刻技术
准分子激光器
区域
微米
纳米
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现在,国家科技部正在组织实施"十五"863计划"100nm分辨率193nm ArF准分子激光器步进扫描投影光刻机"重大项目的研制与攻关,计划在2005年完
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