锝化学研究——Ⅰ.锝化合物的结构稳定性规律

来源 :核化学与放射化学 | 被引量 : 0次 | 上传用户:fuyueliang
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将归一化的“Van der Waals”半径引入空间堆积模型,对百余种锝化合物结构中配体的立体角系数之总和进行了计算,发现存在一个以0.97为中心,以0.13(不大于常见配体的立体角系数)为特征误差的稳定区间,它反映了锝周围配体堆积的限度,对预测和设计锝化合物很有启示。
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