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为探究常压室温等离子体（ARTP）照射处理对胡麻耐盐性的影响,以2个胡麻品种天亚10号和陇亚13号为材料,利用ARTP对胡麻种子进行不同时长（0、10、20、30 min）照射,测定不同Na Cl浓度（0、85、170 mmol·L^-1）胁迫下胡麻的发芽指标、幼苗生长指标、叶绿素（Chl）和类胡萝卜素含量、叶片质膜相对透性、叶片丙二醛（MDA）含量、可溶性蛋白含量及超氧化物歧化酶（SOD）、过氧化物酶（POD）和过氧化氢酶（CAT）活性,分析ARTP处理对Na Cl胁迫下胡麻种子萌发及幼苗生长