【摘 要】
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采用静态H2化学吸附法在选定压力下测定了不同测试条件下的Ni催化剂的金属分散度,通过H2-TPR实验研究了Ni催化剂中Ni的氧化态,考察了还原温度、还原时间、抽真空时间和吸附温
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采用静态H2化学吸附法在选定压力下测定了不同测试条件下的Ni催化剂的金属分散度,通过H2-TPR实验研究了Ni催化剂中Ni的氧化态,考察了还原温度、还原时间、抽真空时间和吸附温度对Ni催化剂的金属分散度的影响.H2-TPR实验结果表明,Ni催化剂中含有两种氧化态Ni,分别在300,800℃下可被还原.静态H2化学吸附法的实验结果表明,高还原温度和长还原时间会使Ni金属发生高温烧结;长时间抽真空可去除还原过程中残留在体系内和Ni金属表面物理吸附的H2;H2在Ni金属上的化学吸附不需经过高温活化即可发生.测试
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