【摘 要】
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采用正交设计法优化了脉冲电泳沉积制备WO3薄膜的工艺参数,并通过分析薄膜的微观结构、透射光谱和循环伏安曲线等研究了最佳工艺条件下制备的WO3薄膜的电致变色性能。结果表
【机 构】
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福州大学材料科学与工程学院,福州大学表面纳米技术研究所
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采用正交设计法优化了脉冲电泳沉积制备WO3薄膜的工艺参数,并通过分析薄膜的微观结构、透射光谱和循环伏安曲线等研究了最佳工艺条件下制备的WO3薄膜的电致变色性能。结果表明,脉冲电泳沉积制备WO3薄膜的最佳工艺参数为平均电流密度0.2×10^-3A/cm^2,沉积时间6min,占空比75%,脉冲周期10ms。最佳工艺条件下制备的WO3薄膜厚度约为251nm,呈非晶态;在可见光区（550～800nm）,光调制幅度（△T）可达76%～80%;表现出良好的电化学活性,离子存储能力达27.8×10
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