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采用OM、SEM、XRD、DTA、EPMA等手段,系统研究了瓷绝缘子棕红釉面黑色网状缺陷的工艺及结构特征,探讨了缺陷形成的机理.结果表明,这种缺陷产生的主要原因是由于使用了氧化物着色及原料配比、釉浆性能、施釉厚度、烧成温度、烧成气氛控制不当所致.
瓷绝缘子棕红釉黑色网状缺陷形成机理探讨
【摘 要】
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采用OM、SEM、XRD、DTA、EPMA等手段,系统研究了瓷绝缘子棕红釉面黑色网状缺陷的工艺及结构特征,探讨了缺陷形成的机理.结果表明,这种缺陷产生的主要原因是由于使用了氧化物
【机 构】
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西北轻工业学院,西安双佳高压电瓷电器有限公司
【出 处】
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电瓷避雷器
【发表日期】
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2001年5期
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