【摘 要】
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随着ＤＲＡＭ换代 ,要求必须延长数据保持时间、减小Ｐ Ｎ结漏电流。因此 ,ＮＥＣ研究了从器件活性层区域去除产生漏电流的重金属污染元素吸杂技术。该技术是 :从生产线上混入的重金属污染元素
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随着ＤＲＡＭ换代 ,要求必须延长数据保持时间、减小Ｐ Ｎ结漏电流。因此 ,ＮＥＣ研究了从器件活性层区域去除产生漏电流的重金属污染元素吸杂技术。该技术是 :从生产线上混入的重金属污染元素可充分扩散至吸杂位置 ,而且高效吸杂。结果 ,将缓冷吸杂热处理和多晶硅衬底、密封衬
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