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在高端光刻机中,为提高预对准的精度,需要对预对准过程中硅片的边缘位置进行稳定.文中对-种硅片边缘位置稳定装置的设计原理、结构、仿真测试进行了详尽的描述,并提出了该方向可以进一步研究的技术点.
硅片边缘位置稳定装置的设计研究
【摘 要】
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在高端光刻机中,为提高预对准的精度,需要对预对准过程中硅片的边缘位置进行稳定.文中对-种硅片边缘位置稳定装置的设计原理、结构、仿真测试进行了详尽的描述,并提出了该方
【机 构】
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上海微电子装备（集团）股份有限公司
【出 处】
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集成电路应用
【发表日期】
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2018年10期
【基金项目】
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上海市发展和改革委员会（XA4300089-2017-604）先进封装光刻机产业化课题.
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