【摘 要】
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<正> 一、概况在半导体工业生产中,几乎各个工序都会用到超纯气体,器件的质量与超纯气体的纯净度密切相关。半导体工业所需的超纯气体包括:H2、O2、N2、Ar、He、NH3、HC1、Si
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<正> 一、概况在半导体工业生产中,几乎各个工序都会用到超纯气体,器件的质量与超纯气体的纯净度密切相关。半导体工业所需的超纯气体包括:H2、O2、N2、Ar、He、NH3、HC1、SiH4、PH3、B2H8、AsH3、H2Se、H2Te、CF4、CO2等共十余种,按用途可分为保护气体、反应气体和运载气体。保护气体包括Ar、N2、He及其混合气体等。主要用于防止器件在加工过程中受到空气的污染。另外还用于扩散和外延生长工序前后将反应装置吹净。反应气体包括H2、O2、N2、Ar、CF4及各种气体氢化物。主要作为生产半导体材料的原材料、还原气;生产半导体器件时形成P-n结、保护层和隔离层的气体。
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