磁控溅射制备掺银TiO2薄膜的光催化特性研究

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【摘要】

：

利用交流磁控溅射设备采用金属Ti靶在石英和硅衬底制备掺银TiO2薄膜,并利用SEM,XRD及吸收光谱等方法分析测试TiO2薄膜的性质,探讨了掺银对TiO2薄膜吸收光谱的影响.并通过对甲

【作者】

：

邱成军曹茂盛张辉军刘红梅田风军刘鑫

【机构】

：

黑龙江大学,北京理工大学

【出处】

：

材料工程

【发表日期】

：

2005年10期

【关键词】

：

薄膜锐钛矿相射频磁控溅射光催化活性 thin film anatase radio frequency magnetron sputtering

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利用交流磁控溅射设备采用金属Ti靶在石英和硅衬底制备掺银TiO2薄膜,并利用SEM,XRD及吸收光谱等方法分析测试TiO2薄膜的性质,探讨了掺银对TiO2薄膜吸收光谱的影响.并通过对甲基橙溶液浓度变化研究了掺银TiO2薄膜光催化特性,分析了掺银对TiO2薄膜增强光催化作用的工作机理,研究结果表明掺银有利于TiO2薄膜对有机物的降解作用.

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