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介绍了在微波等离子体CVD装置中，用甲烷和氢气作为原料，在非平面基体（如钨丝、钻头、铣刀等）上生长金刚石薄膜的研究。在金刚石沉积过程中，由于“尖端效应”，在基体的尖端很难沉积出金刚石膜。在采用金属丝屏蔽后，克服了“尖端效应”，成功地在非平面基体上沉积出了金刚石膜。用扫描电镜（SEM）和激光拉曼光谱（Raman）分析了金刚石膜的形貌和质量。结果表明：非平面基体不同位置金刚石的晶形不同，晶粒比较细小，膜的质量较高。