【摘 要】
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以Be为基体,采用磁控溅射离子镀在其上镀制Al膜,研究了离子轰击对膜基界面和Al膜微结构的影响.研究表明,在薄膜沉积初期,施加高能量离子轰击和采取循环轰击镀能增加界面形成
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以Be为基体,采用磁控溅射离子镀在其上镀制Al膜,研究了离子轰击对膜基界面和Al膜微结构的影响.研究表明,在薄膜沉积初期,施加高能量离子轰击和采取循环轰击镀能增加界面形成的Be 、Al共混区宽度.不同能量的离子轰击对Al膜微结构有较大影响,不施加离子轰击,Al膜在(111)面择优生长;随着轰击能量升高Al膜在(111)面择优生长趋势减弱,Al膜在(200)面生长趋势加强;当轰击能量超过一定值后,Al膜在(111)面择优生长的趋势又得到加强.晶粒在低能量离子轰击时随轰击能量增加而细化,当较高能量离子轰击引起
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