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在微电子机械系统(MEMS)中,大高宽比微结构被广泛应用.由于紫外光衍射效应比较大,通过紫外光刻获得高精度的大高度微结构并不容易.本文主要研究了衍射效应对深紫外光刻精度的影响,并与实验结果进行了比较,理论模拟结果和实验比较吻合.因此,通过模拟结果得到不同厚度光刻胶的最佳曝光剂量,以便得到更好的微结构图形.