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磁控溅射技术在薄膜制备领域的应用十分广泛,而溅射靶电流的稳定性极大的影响溅射镀膜的膜层质量。本文对于工业用巨型磁控溅射靶电流的不稳定因素进行了分析,设计并实现了靶电压的反馈控制系统,大大改善靶电压与反应气体流量之间的迟滞回线,增强了靶电压的可控制性,并在实际生产中得到成功应用。
工业用巨型磁控溅射靶电源反馈控制的研究
【摘 要】
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磁控溅射技术在薄膜制备领域的应用十分广泛,而溅射靶电流的稳定性极大的影响溅射镀膜的膜层质量。本文对于工业用巨型磁控溅射靶电流的不稳定因素进行了分析,设计并实现了靶
【机 构】
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浙江大学信息与电子工程学系; 浙江大学信息与电子工程学系 浙江杭州310027; 浙江杭州310027;
【出 处】
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真空
【发表日期】
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2006年01期
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