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维的计量学的精确上的要求在半导体生产的区域是特别紧的。这在面具和硅晶片和他们的相应参考计量学上特别地为最小的结构的线宽的测量和控制成立。在这篇论文，我们将描述物理模型和在 PTB 为光罩线宽计量学被开发的参考书乐器学。它将被显示出，不同方法的结果怎么能被用于比较分析。这些方法的应用程序将根据最新发达的光罩线宽标准作为模范地被演示。