光化学气相沉积法及其应用

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<正> 一、前言作为一种超硬、耐热、耐腐蚀的超级材料的合成方法,CVD(化学气相沉积)法具有许多突出的优点,目前正在大范围内开发其应用领域。由于CVD法基本上是通过1000℃左右的高温反应进行合成的方法,因而在耐热和耐腐蚀方面必然受到原材料和设备材料的制约,此外在沉积膜的均匀性和结构等方面也存在问题。其解决办法之一就是开发低温成膜法。目前正在探讨开发在较低温度下进行反应的新的CVD试剂(OMCVD法)。利用等离子或离子激励原料气体(等离子CVD)及光激励法(光CVD),其中有的方法已在微电子领
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