论文部分内容阅读
由实验后的圆柱形霍尔推力器来看，内磁极刻蚀是影响霍尔推力器寿命以及效率的主要因素之一。主要结合实验结果，从理论上分析刻蚀以及刻蚀形貌形成的原因。并利用PIC粒子模拟跟踪离子的轨迹来解释内磁极的刻蚀问题。结果表明：推力器的工作状态、电磁场位形是影响内磁极刻蚀及刻蚀形貌的主要因素。最后针对刻蚀原因提出了相应的减小刻蚀的方法，并比较了各种方法所起的作用。