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采用磁控溅射法在CAT．No．7101玻璃基底上沉积了W／Al双层金属膜，并对其进行纳米压痕实验。利用非线性有限元法对压痕过程进行仿真，分析了膜基体系的应力分布。结果表明：磁控溅射法制备的薄膜组织均匀、力争陛能好。W／Al双层金属膜系中的W薄膜的洋陛模量与硬度平均值分别为75．4335GPa、6．206GPa，其值与块状W材料的相应参数差别较大。仿真曲线与实验结果基本相符，能够反映出膜基体系的力学状态以及应力分布规律。