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碳酰氟是一种应用于半导体设备刻蚀和清洗的新型材料,在有机合成及氟化物的干燥、纯化领域也有重要应用。目前国内外关于碳酰氟的制备报道有很多,根据原料种类大体可分为四类,其中CO作为原料制备碳酰氟是应用最多的方法。作为应用于半导体行业的电子气体,对于纯度有一定的要求,因此碳酰氟的纯化也是制约其工业化应用的重要因素。