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红外辐照退火硼离子注入硅的后热处理特性研究
红外辐照退火硼离子注入硅的后热处理特性研究
来源 :固体电子学研究与进展 | 被引量 : 0次 | 上传用户:zhaohongjie0908
【摘 要】
:
本文研究了硼离子注入硅经红外辐照退火后的热处理特性.实验发现,对于20keV,3.5×1014cm-211B离子注入硅样品,经10秒到几十秒红外辐照后再进行不同温度的后热处理,表面薄
【作 者】
:
范永平
罗晋生
【机 构】
:
西安交通大学电子工程系,西安交通大学电子工程系
【出 处】
:
固体电子学研究与进展
【发表日期】
:
1990年2期
【关键词】
:
硼离子
注入硅
红外辐射
热处理
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本文研究了硼离子注入硅经红外辐照退火后的热处理特性.实验发现,对于20keV,3.5×1014cm-211B离子注入硅样品,经10秒到几十秒红外辐照后再进行不同温度的后热处理,表面薄层电阻随退火温度呈规律性变化,在1050℃附近达到最小值,此时杂质的电激活率大于100%.更多还原
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