【摘 要】
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目的:研究等离子磁控反应溅射TiN膜对镍铬合金Ni离子析出的影响.方法:利用等离子磁控反应溅射技术在牙科用镍铬合金表面沉积TiN离子膜,以未溅射前为对照,浸泡于人工唾液中,通
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目的:研究等离子磁控反应溅射TiN膜对镍铬合金Ni离子析出的影响.方法:利用等离子磁控反应溅射技术在牙科用镍铬合金表面沉积TiN离子膜,以未溅射前为对照,浸泡于人工唾液中,通过电感偶合等离子体发射光谱-质谱连用仪(ICP-MS)定量检测Ni离子析出量.结果:沉积了TiN膜后的镍铬合金镍离子析出量均数为634.3 ng/ml,而未沉积组Ni离子析出均数为3894.3 ng/mL经t检验两者具有显著的统计学差异(P
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