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本文研究了背面引线离子敏感场效应器件的特殊工艺技术。重点阐述了双面光刻各向异性腐蚀，深坑加工，腐蚀自停止等技术，实现了源漏电极从芯片背面引出，给出了扫描电镜分析照片。提出了一个合理，实用的腐蚀配方及条件：在７７℃恒温腐蚀溶液中，腐蚀约５小时３０分钟，腐蚀速度为５５μｍ／ｈ－６０μｍ／ｈ。
BSC—ISFET的特殊工艺研究
【摘 要】
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本文研究了背面引线离子敏感场效应器件的特殊工艺技术。重点阐述了双面光刻各向异性腐蚀，深坑加工，腐蚀自停止等技术，实现了源漏电极从芯片背面引出，给出了扫描电镜分析照片。提
【机 构】
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中国科学院电子学研究所
【出 处】
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功能材料与器件学报
【发表日期】
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1996年3期
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