【摘 要】
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采用对称-单纯形法对电沉积渗硅熔融盐配方进行了优化设计。设计结果表明,通过计算得到的渗层厚度与熔融盐成分之间的回归方程具有明显的显著性,选择出最佳配方为n（NaCl）∶n（KCl
【机 构】
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河北理工大学冶金与能源学院河北省现代冶金技术重点试验室,燕山大学材料科学与工程学院
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采用对称-单纯形法对电沉积渗硅熔融盐配方进行了优化设计。设计结果表明,通过计算得到的渗层厚度与熔融盐成分之间的回归方程具有明显的显著性,选择出最佳配方为n（NaCl）∶n（KCl）∶n（NaF）∶n（SiO2）=1∶1∶3∶0.3,用此配方在低硅钢基体上获得了34.51μm渗硅层,实验值与预测值基本吻合。辉光放电光谱仪测定出渗硅层中Si元素呈梯度分布,渗硅层与基体结合良好,光学金相照片显示渗硅层厚度均匀。
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