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采用扫描电镜（SEM）和电子衍射能谱（EDX）研究在含K2ZrF6的溶液中AM50镁合金表面复合微弧体氧化涂层的形成过程。采用电化学阻抗谱（EIS）研究在微弧体氧化制备膜层过程中膜层耐腐蚀性能的变化。结果表明：当电压小于起弧电压时,合金表面膜层的主要成分为MgO和MgF2;当施加电压超过起弧电压时,锆氧化物开始在合金表面沉积,且膜层的耐腐蚀性随着电压的升高而提高。