【摘 要】
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目的研究电化学人工龋的电化学腐蚀机制.方法采用循环伏安法研究牙片电极在K2SO4溶液中的氧化还原反应;以失重法并结合SPSS统计软件统计分析,评价牙片在KCl和K2SO4介质中恒电
【机 构】
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第三军医大学基础医学部化学教研室,重庆,400038第三军医大学附属西南医院口腔科,重庆,400038;
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目的研究电化学人工龋的电化学腐蚀机制.方法采用循环伏安法研究牙片电极在K2SO4溶液中的氧化还原反应;以失重法并结合SPSS统计软件统计分析,评价牙片在KCl和K2SO4介质中恒电位腐蚀情况,并现场监测电解液氢离子浓度的变化情况.结果在0.0～2.5 V电位范围内,牙片电极与石墨电极具有波形类似的循环伏安曲线;在KCl和K2SO4介质中牙片的腐蚀速度无显著差异;2.0 V恒电位腐蚀牙片8 h后, 阳极池本体溶液pH值由7.0平均下降到3.87,阴极池则由7.0平均升高到10.65.结论在外电场作用下,牙片的阳极腐蚀与介质无关;水的阳极氧化引起阳极区氢离子浓度升高,致使牙齿发生酸溶是电化学人工龋形成的主要决定因素.
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