氩氧控制气氛下直流电弧放电中氟化反应

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本文以前文为基础测定了不同氟化剂存在下杂质元素的蒸发率,计算了弧温、电子密度以及杂质元素的电离度,研究了影响元素谱线强度的诸因素,用晶体X射线衍射分析了电极反应残留物,提出了氟化反应的机理,并通过热力学计算予以说明。 1实验部分 1.1 仪器及主要工作条件 HILGER WATTS大型棱镜摄谱仪,直流电弧光源,电流10 In this paper, the evaporation rates of impurity elements in the presence of different fluorinating agents were measured on the basis of the previous article, and the arc temperature, electron density and the ionization degree of impurity elements were calculated. The factors influencing the intensity of the element lines were studied. By X-ray diffraction The electrode reaction residue, the mechanism of the fluorination reaction, and through the thermodynamic calculation to be described. 1 Experimental 1.1 Instruments and main working conditions HILGER WATTS large prism spectrometer, DC arc light source, the current 10
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