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<正> 0 前言近年来,半导体产业的发展非常迅速,大规模集成电路的集成度由4~16兆位,进一步向64兆位发展。与此同时,所使用的气体、药品、水等越来越要求超高纯度,另外,其分析水平也向超高水平发展。以前,杂质分析水平为10~6级,而现在是10~(-9)级,进而向10~(-12)级发展。目前,杂质中的主要问题是工艺气中的水份。