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薄膜厚度的多探头计算机实时测控系统
薄膜厚度的多探头计算机实时测控系统
来源 :真空科学与技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:kobe20060121
【摘 要】
:
阐述了用声阻抗法实时监测薄膜沉积的原理,介绍了一种使用个人计算机的实时测控系统。它可在真空镀膜的过程中对膜厚进行实时测量和控制,允许使用多个石英晶体探头,以适应多源共
【作 者】
:
范智勇
陈殿勇
莫晓亮
陈国荣
【机 构】
:
复旦大学材料科学系
【出 处】
:
真空科学与技术
【发表日期】
:
2001年2期
【关键词】
:
计算机
薄膜厚度
多探头
声阻抗法
实时测控系统
真空镀膜
石英晶体荡法
Computer
Thin film thickness
Real time insi
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阐述了用声阻抗法实时监测薄膜沉积的原理,介绍了一种使用个人计算机的实时测控系统。它可在真空镀膜的过程中对膜厚进行实时测量和控制,允许使用多个石英晶体探头,以适应多源共蒸发真空镀膜的需要。监测的过程和结果可以存储下来进行分析。为优化镀膜工艺提供了很大的方便。
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